Доступен к заказу
Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр
Рентгеновский фотоэлектронный спектрометр (РФЭС, XPS) состоит из основной и загрузочной камер для образцов. Основная камера оснащена полусферическим анализатором, двух-анодным (Al, Mg) источником рентгеновского излучения, аргон-ионным источником, устройством для нейтрализации заряда, четырех-координатным столиком для образцов.
Рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS) является методом анализа поверхности материалов, основанным на взаимодействии рентгеновских лучей с атомами и молекулами. Основной принцип метода заключается в измерении энергии и интенсивности фотоэлектронов, испускаемых при воздействии рентгеновского излучения на поверхность образца.
Одной из особенностей XPS является его высокая поверхностная чувствительность. Метод позволяет анализировать только верхние слои образца, толщиной до нескольких нанометров. Это делает XPS особенно полезным для исследования поверхностных свойств материалов, таких как химический состав, степень окисления, электронная структура и др.
Еще одной важной особенностью XPS является его высокая химическая специфичность. Метод позволяет идентифицировать элементы, присутствующие на поверхности образца, и определять их химическое состояние. Это достигается путем анализа энергии связи фотоэлектронов, которая зависит от химической природы атома или молекулы, из которых они исходят.
Другой важной особенностью XPS является его высокая энергетическая разрешающая способность. Метод позволяет различать фотоэлектроны с разными энергиями с высокой точностью, что позволяет определять даже небольшие изменения в химическом состоянии поверхности образца.
Таким образом, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия является мощным методом анализа поверхности материалов, обладающим высокой поверхностной чувствительностью, химической специфичностью и энергетической разрешающей способностью. Он находит широкое применение в различных областях науки и техники, таких как материаловедение, катализ, нанотехнологии и др.
XPS
|
≥4,2 Mcps, FWHM = 1,0 эВ, Ag 3d5/2, Al Ka | |
≥11 Mcps, FWHM = 1,5 эВ, Ag 3d5/2, Al Ka | ||
Наименование | Параметр | Значение |
Анализатор | Тип детектора | MCP+CCD 2D детектор |
Радиус | 150мм | |
Режим работы | фиксированный и режим сканирования | |
Энергетическое разрешение | ≤50 мэВ FWHM @ 2 эВ Pass energy, 9.0 эВ Кинетической энергии | |
Диапазон кинетической энергии | 0,5 ~ 1500 эВ (опционально до 3500 эВ) | |
Диапазон угла сбора | до ±15° | |
Pass energy: | 10, 20, 50, 100, 200 эВ (опционально до 500 эВ) | |
Количество сменных входных апертур | 7шт | |
Рабочее расстояние | 40мм | |
Конфигурация:
1) Анализатор, 1 комплект 2) Блок питания, 1 комплект 3) Система сбора данных, 1 комплект |
||
Рентгеновский источник с двумя мишенями* | Материал анода №1 | Al |
Материал анода №2 | Mg | |
Рабочая мощность | Al 400 Вт, Mg 300Вт | |
Метод охлаждения | Водяное охлаждение | |
Монтажный фланец | DN40CF. Рабочее расстояние: 15 мм | |
Рабочее давление | <1E-6 мбар | |
Температура отжига | <180 ℃ | |
Источник питания | ||
Максимальное напряжение | +15 кВ | |
Диапазон тока луча | 0 ~ 40 мА | |
Максимальная мощность | 400 Вт | |
Конфигурация:
1) Источник рентгеновского излучения**, 1 комплект 2) Источник питания высокого напряжения, 1 комплект 3) Контроллер водяного охлаждения, 1 комплект 4) Программное обеспечение, 1 комплект |
||
*Рентгеновский источник с двумя мишенями – разработан специально для XPS и использует проверенный высокоинтенсивный источник рентгеновского излучения с двойным анодом с мишенями из алюминия и магния. | ||
**Примечание. Чиллер для воды в комплект не входит. | ||
Аргоновая пушка | Диапазон энергии | 200 ~ 5000 эВ |
Регулируемый размер луча | до 20 мкА | |
Размер пятна | около 5 мм (при рабочем расстоянии 30 мм) | |
Применимый газ | Аргон и др. | |
Монтажный фланец | DN40CF | |
Длина ввода в камеру | 190 мм (изменяемый параметр) | |
Рабочее расстояние | 30 мм (изменяемый параметр)
|
|
Конфигурация:
1) Аргоновая пушка, 1 комплект 2) Блок питания, 1 комплект |
||
Система нейтрализации заряда | Диапазон энергии | 0–500 эВ |
Регулируемый размер луча | до 1 мкА | |
Размер пятна | 15–25 мм | |
Монтажный фланец | DN40CF | |
Длина ввода в камеру | 146 мм | |
Рабочее расстояние | 40 мм | |
Конфигурация:
1) Пистолет-нейтрализатор, 1 комплект 2) Блок питания, 1 комплект |
||
4-осевой столик | Количество осей | 4 |
Перемещение XY | ±10 мм | |
Перемещение Z | 100 мм | |
Полярный угол | ±90° | |
Размер образца | Стандартный монтажный фланец держателя образца CF100 | |
Конфигурация:
1) Четырехосный трансляционный столик, 1 комплект 2) Блок питания, 1 комплект |
||
Основная камера
|
Материал камеры | Нержавеющая сталь со вставкой из μ для достижения магнитного экранирования и сверхвысокого вакуума. Конструкция камеры отвечает потребностям компонентов и загрузки проб |
Вакуум в системе | 5Е-9 мбар | |
Конфигурация:
1) Вакуумная камера с магнитным экраном, 1 комплект. 2) Молекулярный насос 300 л/с, 1 комплект; механический сухой насос, 1 комплект; ионный датчик, 1 комплект 3) Вакуумный фланец, окно и т. д., 1 комплект. |
||
Камера загрузки образцов | Материал камеры | SUS304 |
Назначение | Быстрая загрузка проб, перенос проб, сверхвысокий вакуум и т. д. | |
Передача образцов | Стандартный держатель образцов флагового типа | |
Станции хранения проб | ≥3 | |
Степень вакуума выше | 1E-7 мбар | |
Конфигурация:
1) Вакуумная камера из нержавеющей стали, 1 комплект. 2) Молекулярный насос 80 л/с, 1 комплект; механический сухой насос, 1 комплект; полнодиапазонный манометр, 1 комплект; задвижка, 1 комплект; 3) Магнитный стержень для переноса проб и головка для переноса проб, 1 комплект; 4) Магнитный стержень для хранения проб и станция хранения проб, 1 комплект;
|
Рентгеновский монокристальный дифрактометр Tongda TD-5000 – это стационарный прибор […]
Запрос цены ПодробнееЭлектронный микроскоп HR9000 представляет из […]
Запрос цены ПодробнееВибрационный магнитометр представляет собой высокочувствительный инструмент для […]
Запрос цены Подробнее