Компания «ЭМТИОН» сообщает о вводе в эксплуатацию первой на территории Российской Федерации коммерческой системы NAP-XPS (рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия в условиях, близких к атмосферному давлению), произведённой в КНР. Установка размещена в Институте катализа им. Г. К. Борескова СО РАН (г. Новосибирск) и расширяет экспериментальные возможности для исследований в области гетерогенного катализа, физики поверхности и материаловедения.
![]() |
![]() |
|
Фото установки NAP-XPS в Институте катализа имени Г. К. Борескова СО РАН |
|
Компания «ЭМТИОН» выступает эксклюзивным поставщиком данного класса оборудования на территории РФ, что подтверждает компетенции в области интеграции специализированных аналитических комплексов для фундаментальных и прикладных исследований.
Физические основы и технические особенности NAP-XPS
Классическая рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия (XPS) реализуется в условиях сверхвысокого вакуума (P < 10−9 мбар), что обусловлено необходимостью минимизации неупругого рассеяния фотоэлектронов на молекулах остаточных газов. Длина свободного пробега электрона с кинетической энергией 200–1500 эВ в газе при атмосферном давлении составляет единицы микрометров, что делает невозможным детектирование сигнала без специализированных инженерных решений.
NAP-XPS реализует методику спектроскопии в рабочих условиях, позволяющую регистрировать фотоэмиссионные спектры в контролируемой газовой среде при давлениях до 25 мбар. Это обеспечивает возможность мониторинга эволюции химического состояния поверхности в реальном времени в условиях, приближенных к параметрам каталитических процессов.
Принцип детектирования. В основе метода лежит фотоэлектрический эффект: при облучении образца монохроматическим рентгеновским излучением (обычно Al Kα, hν = 1486,6 эВ или Mg Kα, hν = 1253,6 эВ) происходит эмиссия фотоэлектронов, кинетическая энергия которых связана с энергией связи электрона в атоме соотношением Эйнштейна: Eсв = hν − Eкин − φ, где φ — работа выхода спектрометра. Анализ положения и формы пиков в спектре позволяет определять элементный состав и химическое состояние атомов в приповерхностном слое.
Система дифференциальной откачки. Ключевым техническим решением в NAP-XPS является многокаскадная система дифференциальной откачки, разделяющая аналитическую камеру (с образцом в газовой среде) и входную апертуру энергоанализатора, находящегося в условиях высокого вакуума. Фотоэлектроны транспортируются через систему апертур малого диаметра и электростатических линз, что обеспечивает сохранение энергетического разрешения при минимизации газодинамической нагрузки на анализатор. Такая конфигурация позволяет детектировать сигнал с эффективностью, достаточной для получения спектров с приемлемым отношением сигнал/шум в режиме реального времени.

Принципиальная схема системы РФЭС высокого давления (NAP-XPS)
c трехступенчатой системой дифференциальной откачки
Экспериментальные возможности установки
Установка поддерживает проведение экспериментов в динамических газовых средах с возможностью дозирования реакционных смесей (O2, H2, CO, CO2, NOx и др.) с контролем парциальных давлений. Это позволяет исследовать кинетику поверхностных реакций, механизмы адсорбции/десорбции, реконструкцию поверхности и изменение степени окисления активных центров катализатора в условиях, моделирующих реальные технологические процессы.
Температурный диапазон исследований составляет от комнатной температуры до 800 °C (реализовано посредством лазерного или резистивного нагрева), что критически важно для изучения высокотемпературных каталитических систем. Дополнительные модули включают: источник ксенонового излучения для исследования фотокаталитических процессов (имитация солнечного спектра), а также интерфейс для подключения электрохимических ячеек, что расширяет применимость метода в области изучения электродных материалов для аккумуляторов и топливных элементов.
Технические характеристики и преимущества NAP-XPS:
-
Мониторинг химического состояния поверхности в реальном времени при давлениях до 25 мбар в рабочих условиях.
-
Возможность работы с широким спектром реакционных газов и их смесей с контролем парциальных давлений.
-
Температурный диапазон исследований: 25–800 °C с высокой стабильностью термоконтроля.
-
Глубина анализа: ~1–10 нм (определяется неупругой длиной свободного пробега фотоэлектронов в данном материале).
-
Возможность профилирования по глубине в сочетании с ионным травлением (при переключении в режим сверхвысокого вакуума).
-
Интеграция с дополнительными модулями для исследований в рабочих условиях: оптическое возбуждение, электрохимические ячейки, масс-спектрометрический анализ газовой фазы.
Научная преемственность и развитие инфраструктуры
Поставка системы NAP-XPS в Институт катализа им. Г. К. Борескова СО РАН является этапом развития аналитической базы института. Ранее для решения задач физики поверхности и катализа здесь уже эксплуатировалось оборудование класса XPS (в т.ч. системы производства VG Scientific, Великобритания, поставленные в 1990-х гг.), что создало основу для квалифицированной работы с современными спектроскопическими комплексами.
![]() |
|
Фото РФЭС-системы, поставленной в Институт катализа в 90-х годах компанией VG Scientific (Великобритания) |
Области прикладного применения
Функциональные возможности NAP-XPS востребованы в задачах, требующих корреляции между поверхностным химическим состоянием и функциональными характеристиками материала:
- Разработка и оптимизация гетерогенных катализаторов для процессов нефтепереработки, синтеза Фишера–Тропша, селективного окисления;
- Исследование деградационных механизмов и формирования межфазных слоев в электродных материалах литий-ионных и пост-литиевых аккумуляторов;
- Изучение кинетики коррозии и эффективности ингибиторов, а также механизмов формирования функциональных покрытий;
- Разработка и тестирование чувствительных элементов газовых сенсоров на основе оксидных полупроводников.
Успешная инсталляция и запуск системы NAP-XPS подтверждают способность компании «ЭМТИОН» реализовывать комплексные проекты по оснащению научных центров оборудованием экспертного класса. Мы готовы к обсуждению технических требований и разработке индивидуальных решений под специфику ваших исследовательских задач.
Источники:
Компания «ЭМТИОН» осуществляет разработку, производство и поставку исследовательского и технологического оборудования для лабораторий и промышленных предприятий. Собственные производственные мощности расположены в г. Зеленоград (Москва), партнёрские производства — на территории РФ, Республики Беларусь и КНР.
Каталог продукции включает:
- Фотоэлектронная спектроскопия (XPS, UPS, ARPES)
- Сканирующая зондовая микроскопия (АСМ/СТМ)
- Конфокальные Рамановские микроскопы-спектрометры
- Рентгеновские дифрактометры
- Оборудование для литографии
- Вибрационные магнитометры (VSM)
- Оптические 3D и стилусные профилометры
- Оптические микроскопы
- Технологическое вакуумное оборудование






.png)