Двухколонный электронный микроскоп HR9000 - ЭМТИОН
Двухколонный электронный микроскоп HR9000

CHINA

Высокоразрешающий электронно-ионный микроскоп

Описание Двухколонный электронный микроскоп HR9000

 

      Электронный микроскоп HR9000 представляет из себя электронный микроскоп высокого разрешения с катодом Шоттки и возможностью установки колонны сфокусированного ионного луча. Используется электронно-оптическая колонна нового поколения. Наличие внутрилинзового детектора вторичных электронов и системы торможения электронного пучка позволяет существенно повысить функциональность и разрешающую способность прибора в низковольтном режиме работы. Сочетание передового качества решений ведущих мировых производителей компонентов СЭМ и разумной стоимости оборудования, что вместе с доступным локальным сервисом на территории России позволяет обеспечить надежную и эффективную работу оборудования на долгие годы.

 

Особенности:

  • Компактные одноколонные и двухколонные системы
  • 0,9нм@15кВ (SE), 0,8нм@30кВ (STEM), низковольтный режим – 1,5нм@1кВ (SE, in-lens)
  • Электронная пушка с катодом Шоттки (FEG)
  • Колонна сфокусированного ионного луча (FIB), диаметр ионного луча 2,5нм @1пА
  • Максимальная гибкость конфигурации до 27 внешних портов 
  • Приставка для работы на просвет (STEM)
  • Большая камера для образцов (∅300мм х 50мм) и наличие шлюзовой камеры
  • Моторизированный по 5 осям предметный стол

 

 

Модельный ряд электронных микроскопов серии HR9000:

  • HR9000 – без электростатической линзы;
  • HR9000IB – без электростатической линзы с ионной колонной;
  • HR9100 – с электростатической линзой;
  • HR9100IB – с электростатической линзой и ионной колонной.

 

Опции:

 

  • Энергодисперсионный микроанализ (EDS)
  • Дифракция отраженных электронов (EBSD)
  • Волнодисперсионный микроанализ (WDS)
  • Анализ катодолюминесценции (CL)
  • Электронно-лучевая литография (EBL)
  • Туннельная микроскопия (STM)
  • Атомно-силовая микроскопия (AFM)
  • Температурные столики (нагрев и охлаждение)
  • Столик для механических нагрузок
  • Микро и нано манипуляторы
  • Детектор прошедших электронов (STEM)

 

 

Описание и основные характеристики:

 

Оптимальное решение для проведения СЭМ исследований полупроводников, металлов, горных пород, минералов, руд, биологических отложений, а также органических и полимерных образцов с высоким пространственным разрешением. В конструкции микроскопа используется объективная линза, исключающая выход электромагнитного поля за пределы нижнего среза – никаких ограничений на работу с магнитными образцами или на работу с методикой ДОЭ (EBSD) нет.

 

Микроскоп оснащен эмиттером Шоттки высокой яркости и стабильностью луча, ионно-оптической колонной для технологических процедур, источником прекурсоров для прецизионного электронно-стимулированного осаждения, большим столиком образцов для возможности работы с габаритными материалами, а также обладает широкими возможностями модернизации – 27 портов для установки аналитических приставок, нано-манипуляторов, ввода различного рода излучений.

 

Сканирующий микроскоп комплектуется детектором вторичных электронов с встроенной системой защиты, детектором отраженных электронов четырехсегментного типа для композиционного, топографического и смешанного контраста, а также внутрилинзовым детектором, обеспечивающим работу при сверхмалых энергиях луча (вплоть до 20 эВ).  Управление электронным микроскопом осуществляется с помощью ПК под управлением автоматизированного ПО.

 

Высокое пространственное разрешение

 

0,9нм@15кВ (SE)

1,5нм@15кВ (BSE)

2,5нм@1кВ (BSE)

0,8нм@30кВ (STEM)

низковольтный режим – 1,5нм@1кВ

(SE, внутрилинзовый детектор)

 

 

Интуитивно понятное программное обеспечение

 

 

Сравнение низковольтного РЭМ высокого разрешения HR9000 с мировыми брендами:

 

Модель РЭМ Hitachi SU5000 Zeis Sigma 300 JEOL JSM-IT800HL HR9000
Тип эмиттера Шоттки Шоттки Шоттки Шоттки
 

Разрешение

1 кВ 2.0 нм (режим торможения электронов) 1.5 нм 1.3 нм 1.5 нм
15 кВ 3 нм 1.0 нм 0.7 нм 0.9 нм
30 кВ 1.2 нм 1.0 нм 0.8 нм (детектор прошедших электронов STEM)
Энергия электронного луча 500 В~30 кВ 10 В~30 кВ 20 В~30 кВ 20 В~30 кВ
Ток электронного луча > 200 нА 3 пА~20 нА 300 нА макс 10 пА~30 нА
Увеличение 30 -1,500,000 х 10x~1,000,000x 18x~2,000,000x 10x~1,000,000x
Столик пятиосевой моторизованный
Диапазон перемещений 100 мм x 50 мм 125 мм х 125 мм 70 мм x 50 мм 140 мм x 140 мм
Разрешение изображения (макс.) 5,120 x 3,840 32k x 24k 5,120 x 3,840 24k x 24k
Вакуумная система 2хГИН* – 1xТМН** 1хГИН – 1xТМН 2хГИН – 1xТМН 2хГИН – 1xТМН

 

*ГИН – Геттерно-ионные вакуумные насосы; **ТМН – Турбомолекулярные вакуумные насосы

 

 

Галерея изображений, полученных на HR9000:

 

Полупроводниковый чип Анод литиевого аккумулятора Ткани организмов Высокотемпературный сплав

 

 

Идентификация упрочняющей фазы в жаропрочном сплаве Исследования содержания веществ в тканях и органах организмов

 

 

 

Описание опций для РЭМ HR9000:

 

EDS: Энергодисперсионный анализ FIB: Сфокусированный ионный луч
Энергодисперсионная рентгеновская спектроскопия позволяет проводить качественный и количественный элементный анализ

 

  • Активная площадь детектора от 15мм2 до 150мм2
  • Диапазон элементов B (5) до Cf (98)
  • Разрешение MnKa <129eV
  • Широкий выбор программных пакетов обработки данных
  • EDS детекторы от ведущих мировых производителей
  • Различные пакеты программного обеспечения под специализированные задачи
  • Базы данных для расшифровки результатов
Сфокусированный ионный луч выполняет широкий спектр задач от получения изображения во вторичных электронах до технологических манипуляций, таких как травление микро и нано структур и прецизионной пробоподготовки для просвечивающей электронной микроскопии

 

  • Жидкометаллический источник ионов Ga+
  • Диапазон энергий 500эВ-30кэВ
  • Диапазон токов 1пА – 100нА
  • Рабочее расстояние 12мм
  • Диаметр ионного луча: 2,5нм@1пА, 5нм @10пА
  • Удобное обслуживание колонны
  • Полная интеграция с СЭМ

 

EBSD: Дифракция отражённых электронов WDS: Волнодисперсионный микроанализ
EBSD регистрирует кристаллографические данные образца с высоким пространственным разрешением

 

  • Скорость индексации 600 точек/с @ 3 нА
  • Разрешение камеры 1244 x 1024 пикселей
  • Угловое разрешение 0,05°
  • Интеграция с EDS
  • Защита от столкновения
WDS позволяет проводить точный количественный анализ по элементам

 

  • Спектральное разрешение 2 (Si Kα)-20 эВ
  • Лимит детектирования <100ppm
  • Диапазон детектируемых элементов Be – Pu
  • Разделение близко расположенных пиков
  • Количественный анализ
  • Элементное картирование

 

EBL: Электронно-лучевая литография Опции для расширения
  • Проектирование 2D/3D структур произвольной сложности
  • Импорт из форматов: GDS, DXF, CSF, ELM, TIF, BMP
  • Автоматическое и полуавтоматическое совмещение слоев
  • Моделирование результатов экспонирования
  • PCI карта для управления из компьютера
  • Возможно экспонирование без бланкера

 

  •  Установка напыления токопроводящих покрытий для пробоподготовки
  •  Электронно-лучевая литография (EBL)
  • Туннельная микроскопия (STM)
  • Атомно-силовая микроскопия (AFM)
  • Температурные столики (нагрев и охлаждение)
  • Столики для различных механических нагрузок
  • Микро и нано манипуляторы

 

Параметр Значение
KYKY EM6900 KYKY EM6900LV KYKY EM8000/8100 HR9000
Разрешение 3нм@30кВ ( SE)

6нм@30кВ ( BSE)

1,5нм@15кВ (SE)

3нм@30кВ (BSE)

0,9нм@15кВ (SE)

1,5нм@1кВ (SE)

1,5нм@15кВ (BSE)

2,5нм@1кВ (BSE)

0,8нм@30кВ (STEM)

Увеличение 6х – 300 000х 8х – 300 000х 8x – 800 000х 10x – 1 000 000х
Тип катода термоэмиссионный вольфрамовый катод катод Шоттки
Ток электронного луча 10пА~2мкA 10пА~300нА 10пА~30нА

(опция 100нА)

Энергия электронного луча 0,2 – 30кэВ 0,02 – 30кэВ
Режим низковакуумной микроскопии нет да нет
Режим низковольтной микроскопии нет опция да

 

Детекторы электронов стандартные детектор вторичных электронов (SE)

 детектор отраженных электронов (BSE)

 

детектор вторичных электронов (SE)

 детектор отраженных электронов (BSE)

внутрилинзовые детекторы (in-lens)

Детекторы электронов опциональные детектор прошедших электронов (STEM)

 детектор поглощённого тока

детектор прошедших электронов (STEM)

детектор поглощённого тока

Шлюзовая камера нет да
Столик пятиосевой эуцентрический моторизованный столик
Диапазон перемещений X: 0 – 80 мм / 0 – 150 мм

Y: 0 – 50 мм / 0 – 150 мм

Z: 0 – 30 мм / 0 – 60 мм

R: 360 градусов

T: -5 – +90 градусов

X: 0 – 140 мм

Y: 0 – 140 мм

Z: 0 – 60 мм

R: 360 градусов

T: -10 – +80 градусов

Макс. диаметр образца 175 мм / 340 мм 300мм
Аналитические и технологические опции энергодисперсионный микроанализ (EDS), дифракция отраженных электронов (EBSD), волнодисперсионный микроанализ (WDS), анализ катодолюминесценции (CL), установка напыления, электронно-лучевая литография (EBL), туннельная микроскопия (STM), атомно-силовая микроскопия (AFM), температурные столики (нагрев и охлаждение), столик для механических нагрузок, микро и нано манипуляторы
Ионная колонна (сфокусированный ионный луч) и система электронно-стимулированного осаждения нет да

 

диаметр ионного луча:

2,5нм @1пА

5нм @10пА

 

 

FIB

  • Жидкометаллический источник ионов Ga+
  • Диапазон энергий 500эВ-30кэВ
  • Диапазон токов 1пА – 100нА
  • Рабочее расстояние 12мм
  • Разрешение: 2,5нм @1пА/ 5нм @10пА
  • Удобное обслуживание колонны
  • Полная интеграция с СЭМ
Каталог электронная микроскопия
Загрузить

Может быть полезно:

SBC-1000

SBC-1000 – это профессиональное  решение в линейке устройств для […]

Запрос цены Подробнее
Автоэмиссионный СЭМ ЕМ8100

KYKY ЕМ8100 – это последнее поколение высокоразрешающих сканирующих электронных […]

Запрос цены Подробнее
Модуль нано-манипулятора

Модуль нано-манипулятора позволяет проводить механическое перемещение объектов, а также […]

Запрос цены Подробнее

Оставьте заявку

И мы ответим на интересующие Вас вопросы