Описание GVC-2000

GVC-2000 – это профессиональное  решение в линейке устройств для нанесения тонких пленок методом магнетронного напыления. Устройство представляет из себя компактную настольную систему, имеющую стеклянную процессную камеру, в которой располагается образец. Рекомендуемая рабочая среда камеры – аргон (баллоны со смесью поставляются отдельно). Для откачки вакуума используется роторный насос, контроль давления в вакуумной линии осуществляется встроенным датчиком Пирани. Система блокировки вакуума рассчитана на значение 100 Па, при достижении которого система производит сброс линии давления с помощью установленного напускного клапана.

При магнетронном напылении отрицательные ионы связаны магнитным полем, поэтому бомбардировка образца практически отсутствует, за счет чего повышение температуры образца практически отсутствует что позволяет работать с образцами, чувствительными к воздействию температур (в отличие от метода напыления постоянным током DC, в котором в результате бомбардировки образца отрицательными ионами под действием электрического поля происходит повышение температуры образца). Напряжение напыления установки магнетронного напыления составляет 600 В, в то время как максимальный уровень вакуума составляет 3 Па.

Особенности системы:

• Микропроцессорная система управления для точного контроля параметров технологического процесса (показания давления вакуума в реальном времени, тока распыления, времени распыления, времени работы оборудования и т.д.
• 5ти дюймовый цветной сенсорный экран.
• Работа со стандартными мишенями, такими, как золото, серебро, медь, платина и т.д.
• Стандартная толщина напыления золотой пленки не более 10 нм (экономия расходных мишеней).
• Эффективность нанесения слоя в магнетронной установки вакуумного напыления в 2 раза, чем в DC системе напыления.
• Встроенная система помощи и подсказок, включая функция расчета толщины пленки и оценки процесса покрытия образца.
• Встроенные функции защиты оборудования по перегрузки по току, превышения вакуума.