Китай
Безмасковая УФ-литография
Лазерный литограф MT UV litho – это уникальный безмасковый литограф, предназначенный для быстрого прототипирования и мелкосерийного производства продукции в полупроводниковой промышленности, биомедицинской инженерии, микроэлектронике, микрофлюидике и других областях. Система построена базе технологии двухфотонной лазерной литографии (литография в градациях серого 2.5D). Настольный литограф MT UV litho использует электронно-лучевую УФ-литографию и сочетает в себе компактный эргономичный дизайн. Прибор полностью автоматизирован, имеет высокую скорость записи и высокое разрешение, а также обладает проприетарным программным обеспечением для работы с литографом.
Компактный, но вместе с тем полнофункциональный безмасковый литограф MT UV litho подходит как для проведения исследований и разработок, так и для быстрой обработки и мелкосерийного производства различных изделий: фотошаблоны, полупроводниковые структуры, квантовые устройства и многое другое. Модульная конструкция системы обеспечивает легкую модернизацию и расширение возможностей системы.
Лазерный литограф MT UV litho cовместимо с DXF, GDSII, STL, BMP, PNG и другими форматами файлов, и обеспечивает измерение результатов обработки в реальном времени. Автоматическая фокусировка системы производится всего одним нажатием и отслеживается в реальном времени в ПО управления прибора. Максимальная область печати составляет 200 мм x 200 мм и обеспечивает совместимость с работой с различными 8-дюймовыми подложками, включая подложки из стекла, сапфира, металла, кремния и других материалов. Литограф MT UV litho оснащается системой контроля температуры для обеспечения стабильности измерений во времени. Прибор также может комплектоваться звукосигнальным устройством для обеспечения безопасности работы на предприятии при работе с системой.
Модель прибора (модификация системы) | Nano | Standard |
Ширина лини*/мкм | 0.45 | 1 |
Разрешение*/мкм | 0.5 | 1 |
Выравнивание/мкм(50*50мм2) | 0.8 | 0.8 |
Точность совмещения /мкм | 0.8 | 0.8 |
Максимальная скорость / мм2/мин | 4 | 30 |
Столик образца | Air-bearing XY servomotor stage | |
Диапазон перемещения образца | 210 х 210 мм2 (опция 250 х 50мм) | |
Maximum Writing Area | 90% от диапазона перемещения | |
Повторяемость, мкм | ±0.1 | |
Источник излучения LED, нм | 405 | |
Фоторезист | i-line/g-line | |
Режим работы в градациях серого ** | 128 оттенков | |
Режим векторного экспонирования | с помощью гальвано-зеркал | |
Автофокусировка*** | включена | |
Автоматические выравнивание**** | включено | |
Режим работы «на лету»***** | включен |
*В зависимости от режима записи и фоторезиста
** Режим экспонирования в градациях серого: режим экспонирования в градациях серого позволяет пользователям изготавливать микроструктуры 2,5D, определяя высоту каждого пикселя структур. Высота регулируется встроенным блоком оттенков серого.
***Автофокусировка: повторная загрузка подложек или подложек различной толщины обычно вызывает смещение и, следовательно, потерю фокусировки по оси Z. Поверхность подложки может быть автоматически определена и сфокусирована с помощью одной кнопки автофокусировки.
**** Автоматическое выравнивание: подложка не является идеально ровной поверхностью в соответствии с плоскостью экспонирования. Функция автоматического выравнивания корректирует неравномерность поверхности с разрешением 0,00005 рад.
***** Режим работы «на лету»: бесконечная длинная линия (до диапазона перемещения предметного столика) может быть экспонирована в направлении X/Y без каких-либо ошибок сшивания.
Режим | Nano | Standard |
Ширина лини*/мкм | 0.45 | 1 |
Разрешение*/мкм | 0.5 | 1 |
Выравнивание/мкм(50*50мм2) | 0.8 | 0.8 |
Точность совмещения /мкм | 0.8 | 0.8 |
Максимальная скорость / мм2/мин | 4 | 30 |
Столик образца | Air-bearing XY servomotor stage | |
Диапазон перемещения образца | 210 х 210 мм2 (опция 250 х 50мм) | |
Maximum Writing Area | 90% от диапазона перемещения | |
Повторяемость, мкм | ±0.1 | |
Источник излучения LED, нм | 405 | |
Фоторезист | i-line/g-line | |
Режим работы в градациях серого ** | 128 оттенков | |
Режим векторного экспонирования | с помощью гальвано-зеркал | |
Автофокусировка*** | включена | |
Автоматические выравнивание**** | включено | |
Режим работы «на лету»***** | включен |
*В зависимости от режима записи и фоторезиста
** Режим экспонирования в градациях серого: режим экспонирования в градациях серого позволяет пользователям изготавливать микроструктуры 2,5D, определяя высоту каждого пикселя структур. Высота регулируется встроенным блоком оттенков серого.
***Автофокусировка: повторная загрузка подложек или подложек различной толщины обычно вызывает смещение и, следовательно, потерю фокусировки по оси Z. Поверхность подложки может быть автоматически определена и сфокусирована с помощью одной кнопки автофокусировки.
**** Автоматическое выравнивание: подложка не является идеально ровной поверхностью в соответствии с плоскостью экспонирования. Функция автоматического выравнивания корректирует неравномерность поверхности с разрешением 0,00005 рад.
***** Режим работы «на лету»: бесконечная длинная линия (до диапазона перемещения предметного столика) может быть экспонирована в направлении X/Y без каких-либо ошибок сшивания.
Термостабилизация | ±2 ℃ |
Размер, мм | 750×600×515 |
Вес | 120кг |
Напряжение | 100-240 V, 50/60 Hz, 16 A |
Виброизоляция | активного типа |
Блок управления | HP Intel-Core i3-8100 3.6GHz 4GB HDD1T+120G |
Монитор | 34” HD |
Воздух | 5.5 бар (Сухой воздух без влаги и масла, частицы <0.5мкм) |
Требования к чистоте помещения | Желательно ИСО 7 (не хуже ИСО8) |
В процессе уменьшения размера элементов, наряду с традиционной литографией, […]
Запрос цены ПодробнееМалогабаритная настольная установка магнетронного напыления PicoVAC mini предназначена […]
Запрос цены Подробнее