MT UV litho - ЭМТИОН АСМ/Раман, SPECTRA, AFM, SPM
MT UV litho

Китай

Безмасковая УФ-литография

Описание MT UV litho

     Лазерный литограф MT UV litho – это уникальный безмасковый литограф, предназначенный для быстрого прототипирования и мелкосерийного производства продукции в полупроводниковой промышленности, биомедицинской инженерии, микроэлектронике, микрофлюидике и других областях. Система построена базе технологии двухфотонной лазерной литографии (литография в градациях серого 2.5D). Настольный литограф MT UV litho использует электронно-лучевую УФ-литографию и сочетает в себе компактный эргономичный дизайн. Прибор полностью автоматизирован, имеет высокую скорость записи и высокое разрешение, а также обладает проприетарным программным обеспечением для работы с литографом.

         Компактный, но вместе с тем полнофункциональный безмасковый литограф MT UV litho подходит как для проведения исследований и разработок, так и для быстрой обработки и мелкосерийного производства различных изделий: фотошаблоны, полупроводниковые структуры, квантовые устройства и многое другое. Модульная конструкция системы обеспечивает легкую модернизацию и расширение возможностей системы.

Лазерный литограф MT UV litho cовместимо с DXF, GDSII, STL, BMP, PNG и другими форматами файлов, и обеспечивает измерение результатов обработки в реальном времени. Автоматическая фокусировка системы производится всего одним нажатием и отслеживается в реальном времени в ПО управления прибора. Максимальная область печати составляет 200 мм x 200 мм и обеспечивает совместимость с работой с различными 8-дюймовыми подложками, включая подложки из стекла, сапфира, металла, кремния и других материалов. Литограф MT UV litho оснащается системой контроля температуры для обеспечения стабильности измерений во времени. Прибор также может комплектоваться звукосигнальным устройством для обеспечения безопасности работы на предприятии при работе с системой.

 

Модель прибора (модификация системы) Nano Standard
Ширина лини*/мкм 0.45 1
Разрешение*/мкм 0.5 1
Выравнивание/мкм(50*50мм2) 0.8 0.8
Точность совмещения /мкм 0.8 0.8
Максимальная скорость / мм2/мин 4 30
Столик образца Air-bearing XY servomotor stage
Диапазон перемещения образца 210 х 210 мм2 (опция 250 х 50мм)
Maximum Writing Area 90% от диапазона перемещения
Повторяемость, мкм ±0.1
Источник излучения LED, нм 405
Фоторезист i-line/g-line
Режим работы в градациях серого ** 128 оттенков
Режим векторного экспонирования с помощью гальвано-зеркал
Автофокусировка*** включена
Автоматические выравнивание**** включено
Режим работы «на лету»***** включен

 

 

*В зависимости от режима записи и фоторезиста

** Режим экспонирования в градациях серого: режим экспонирования в градациях серого позволяет пользователям изготавливать микроструктуры 2,5D, определяя высоту каждого пикселя структур. Высота регулируется встроенным блоком оттенков серого.

***Автофокусировка: повторная загрузка подложек или подложек различной толщины обычно вызывает смещение и, следовательно, потерю фокусировки по оси Z. Поверхность подложки может быть автоматически определена и сфокусирована с помощью одной кнопки автофокусировки.

**** Автоматическое выравнивание: подложка не является идеально ровной поверхностью в соответствии с плоскостью экспонирования. Функция автоматического выравнивания корректирует неравномерность поверхности с разрешением 0,00005 рад.

***** Режим работы «на лету»: бесконечная длинная линия (до диапазона перемещения предметного столика) может быть экспонирована в направлении X/Y без каких-либо ошибок сшивания.

Режим Nano Standard
Ширина лини*/мкм 0.45 1
Разрешение*/мкм 0.5 1
Выравнивание/мкм(50*50мм2) 0.8 0.8
Точность совмещения /мкм 0.8 0.8
Максимальная скорость / мм2/мин 4 30
Столик образца Air-bearing XY servomotor stage
Диапазон перемещения образца 210 х 210 мм2 (опция 250 х 50мм)
Maximum Writing Area 90% от диапазона перемещения
Повторяемость, мкм ±0.1
Источник излучения LED, нм 405
Фоторезист i-line/g-line
Режим работы в градациях серого ** 128 оттенков
Режим векторного экспонирования с помощью гальвано-зеркал
Автофокусировка*** включена
Автоматические выравнивание**** включено
Режим работы «на лету»***** включен

 

*В зависимости от режима записи и фоторезиста

** Режим экспонирования в градациях серого: режим экспонирования в градациях серого позволяет пользователям изготавливать микроструктуры 2,5D, определяя высоту каждого пикселя структур. Высота регулируется встроенным блоком оттенков серого.

***Автофокусировка: повторная загрузка подложек или подложек различной толщины обычно вызывает смещение и, следовательно, потерю фокусировки по оси Z. Поверхность подложки может быть автоматически определена и сфокусирована с помощью одной кнопки автофокусировки.

**** Автоматическое выравнивание: подложка не является идеально ровной поверхностью в соответствии с плоскостью экспонирования. Функция автоматического выравнивания корректирует неравномерность поверхности с разрешением 0,00005 рад.

***** Режим работы «на лету»: бесконечная длинная линия (до диапазона перемещения предметного столика) может быть экспонирована в направлении X/Y без каких-либо ошибок сшивания.

 

Термостабилизация ±2 ℃
Размер, мм 750×600×515
Вес 120кг
Напряжение 100-240 V, 50/60 Hz, 16 A
Виброизоляция активного типа
Блок управления HP Intel-Core i3-8100 3.6GHz 4GB HDD1T+120G
Монитор 34” HD
Воздух 5.5 бар (Сухой воздух без влаги и масла, частицы <0.5мкм)
Требования к чистоте помещения Желательно ИСО 7 (не хуже ИСО8)

Может быть полезно:

NIL-150/200

В процессе уменьшения размера элементов, наряду с традиционной литографией, […]

Запрос цены Подробнее
Платформа PicoVAC mini

Настольное оборудование на базе платформы PicoVAC mini позволяет осуществлять осаждение металлических […]

Запрос цены Подробнее

Оставьте заявку

И мы ответим на интересующие Вас вопросы