Описание Стилусный профилометр JS10С

Стилусный профилометр JS10С — это высокоточный зондовый измеритель, предназначенный для 2D-сканирования образцов с высоким разрешением, а также измерения напряжения в пленках и других тонких образцах. Модель идеально подходит для измерения профиля поверхности полупроводниковых пластин в контактном режиме в микроэлектронике (контроль шероховатости, измерение краевых эффектов и др.). Прибор можно использовать как при работе в исследовательских лабораториях, так и для образовательных учреждений. Устройство подойдёт также для проведения измерений в высокоточной механике, анализа изделий после металлообработки и других задач.

Зондовый профилометр JS10С обладает уникальной функцией бесшовного сканирования поверхности (размер до 55 мм). Ручной столик позволяет размещать пластины и другие образцы диаметром до 150 мм. Встроенная высокоточная система контроля нажатия стилуса обеспечивает превосходную линейность и максимально возможное вертикальное разрешение до 0.1 нм. Ближайшие аналоги JS10С — стилусные профилометры KLA Tencor, Taylor Hobson, Bruker Alphastep и другие.

Стилусный профилометр JS10С имеет опциональную пассивную систему виброизоляции, которая повышает точность измерений в условиях вибраций. Профилометр поставляется с программным обеспечением, позволяющим легко анализировать полученные данные. Для интеграции в производственный комплекс доступны дополнительные опции, такие как калибровочные образцы.

Особенности стилусного профилометра серии JS10С:

• Быстрый бесконтактный неразрушающий замер 2D-текстуры образца.
• Измерение шероховатости образца, кривизны поверхности, толщины пленок, анализ дефектов (микротрещины, сколы, царапины) и др.
• Ручной столик для образцов диаметром до 150 мм и толщиной до 50 мм.
• Возможность проведения сканирования образца без необходимости прерывания и сшивки профилей на расстоянии до 55 мм.
• Система постоянного контроля усилия давления стилуса (0.5–50 мг).
• Вертикальное разрешение до 0.05 нм
• Превосходная плоскостность сканирования — менее 20 нм в пределах 2 мм.