Описание Лазерный литограф Litho MaskLess

Лазерный литограф Litho MaskLess (Ю.Корея)— это система безмасковой литографии, использующая технологию динамических масок на основе DMD зеркал (Digital Mirror Device) диагональю 0,65 дюйма производства Texas Instruments. Литограф Uni интегрирован с оптическим микроскопом, прибор поддерживает работу с различными типами фоторезистов и подложек. Он позволяет создавать 2D- и 2.5D-структуры с микронным разрешением без применения традиционных жестких масок.

Основные преимущества

• Высокое пространственное разрешение: до 560 нм.

• Мощный источник света: интенсивное УФ-излучение.

• Доступные длины волн литографии: 365 нм, 385 нм, 405 нм.

• Гибкость экспонирования: бинарные или градационные шаблоны.

• Поддержка формата PNG: загрузка изображений напрямую.

• Точное позиционирование: система EasyAlign с камерой для совмещения шаблонов.

• Совместимость с микроскопами: микроскопы Olympus, Nikon, Thorlabs.

• ИИ-оптимизация: технология AIUniBeam для равномерного распределения пучка.

Технология AIUniBeam

Искусственный интеллект анализирует распределение интенсивности пучка литографа и корректирует яркость каждого пикселя в реальном времени, обеспечивая равномерность экспонирования свыше 90%.

Без корректировки	С технологией AIUniBeam

Система EasyALIGN

Программное обеспечение литографа накладывает виртуальный шаблон на изображение с камеры микроскопа, что позволяет точно совмещать структуры и моделировать результат до экспонирования.

Схема устройства

Совместимые микроскопы

• Olympus: серия BX

• Nikon: серия Eclipse

• Thorlabs: серия Cerna

Максимальные размеры области при проведении литографии в зависимости от объектива микроскопа 

Лазерный литограф Litho Maskless представлен в демонстрационной лаборатории нашей компании. Вы можете ознакомиться с работой лазерного безмаскового литографа в действии и оценить его ключевые преимущества на практике.