Российская Федерация
Оптическая визуализация и спектроскопия в наномасштабе для материаловедения, биологии и др.
Сканирующая ближнепольная оптическая микроскопия (SNOM) позволяет изучать оптические свойства образца с разрешением, значительно превышающим дифракционный предел. Флуоресценцию образца, отражение, пропускание, рассеяние и т. д. SNOM позволяет получать оптическое изображение объекта с разрешением до нескольких десятков нанометров. Существуют два основных вида микроскопии ближнего поля: (1) апертурный SNOM и (2) безапертурный SNOM.
В первом случае в качестве оптического зонда используется апертура субволнового размера на сканирующем наконечнике. Это может быть отверстие в металлическом покрытии либо наконечника оптического волокна, либо кантилевера. Пространственное разрешение

в апертурном SNOM, как правило, определяется диаметром апертуры. Безапертурные методы также основаны на оптических свойствах ближнего поля, но не требуют пропускания света через апертуру. К безапертурным методоам относят SNOM так называемый scattering SNOM, усиленное Рамановское излучение/флуоресценция (TERS) и другие. Методы SNOM широко используются в нанофотонике (плазмоника, фотонные кристаллы, волноводы и т. д.), лазерных технологиях, оптических микроустройствах и материаловедении.
Распространение поверхностных плазмон-поляритонов (SPP) в волноводе SPP исследовано с использованием SNOM, оснащенного гетеродинным интерферометром. Измерены как интенсивность, так и распределение фаз электромагнитного поля СПП.

(а) Топография волновода. (б) Амплитуда электромагнитного поля, полученная зондом SNOM. (в) Фаза электромагнитного поля. Используется лазер с возбуждением 785 нм.
Данные: Antonello Nesci and Olivier J.F. Martin

(а) Экспериментальная установка. (б) СЭМ-изображение и (в) shear-force топография фазовой пластины. Фазовая пластина имеет восемь зон с глубиной травления около 300 нм. (d), (e) Расчетное распределение напряженности электрического поля падающего и проходящего света в плоскостях XZ и XY. (f), (g) Экспериментальное распределение интенсивности электрического поля (детектируемого SNOM) после прохождения через фазовую пластину в плоскостях, расположенных на высоте 10 нм и 750 нм от поверхности пластины. Данные из: R.G. Mote, S.F. Yu, A. Kumar, W. Zhou, X.F. Li, APPLIED PHYSICS B 102: 95–100 (2011).
Изучается фокусирование с помощью плазмонного устройства на основе пленки золота с помощью NTEGRA SNOM. Экспериментальные данные показывают значительную корреляцию с моделированием.


(а) СЭМ-изображение устройства. (б) Распределение напряженности электрического поля проходящего света через плазмонное устройство (смоделировано). Прошедшее излучение регистрируется с помощью NTEGRA SNOM. Распределение интенсивности проходящего света в горизонтальных плоскостях с расстояниями (c) z = 0,5 мкм, (d) z = 1,6 мкм, (e) z = 2,5 мкм и (f) z = 3,5 мкм от поверхности устройства; (g) Распределение интенсивности вдоль сечения в (d). Данные Dr. Fenghuan Hao, Dr. Rui Wang and Dr. Jia Wang , OPTICS EXPRESS Vol. 18, No. 3, 15741- 15746 (2010).

Апертурный СБОМ в режиме «сбора» используется для определения топографии и распределения поля на поверхности фотонного кристалла. Распространение света в однолинейном фотонном кристалле (PhC), из ниобата лития толщиной 450 нм. Топография SNOM (a) и оптические изображения ближнего поля (b), записанные над поверхностью PhC. Волновые векторы Блоха могут быть получены из ближнепольных оптических изображений. Данные: R. Geiss, S. Diziain, N. Janunts, APPLIED PHYSICS LETTERS 97, 131109 (2010).
Фотонный кристалл получают путем травления сотовой решетки в пластине InP с использованием электронно-лучевой литографии и ионного травления. Оптическая микроскопия ближнего поля используется для визуализации эванесцентной моды с пространственным разрешением ниже дифракционного предела.

(а) Топография hsear-force режим (2 × 2 мкм). (б) Оптическое изображение ближнего поля при 1611 нм (2 × 2 мкм), кружки указывают положения сот 2D-фотонного кристалла. Наблюдаются монополярные моды в каждой элементарной ячейке, имеющие внутренний и внешний радиусы 70 нм и 310 нм соответственно. (c) Модуляция напряженности электрического поля на поверхности фотонного кристалла (2 × 2 мкм).
Данные от: Thanh-Phong Vo, Adel Rahmani, Ali Belarouci, Christian Seassal, Dusan Nedeljkovic and Ségolène Callard, OPTICS EXPRESS Vol. 18, No. 3, 15741- 15746 (2010).
| 
 Сканирующая ближнепольная микроскопия 
 | 
|||
| Поперечно-Силовая Микроскопия/ Метод отражения, пропускания, люминесцентный (дополнительно)/ некоторые АСМ методы возможны по выбору | |||
| 
 Технические характеристики 
 | 
|||
| Лазерный модуль | Длина волны* | 
 441, 488, 514, 532, 633 нм 
 | 
|
| Система  ввода излучения  | 
 X-Y-Z позиционер, позиционирование с точностью 1 мкм 
 | 
||
| 
 Держатель волокна с V-канавкой 
 | 
|||
| 
 40X объектив ввода 
 | 
|||
| 
 Поперечно-силовая 
 | 
|||
| Размер образца | 
 До 100 мм в диаметре, 
до 15 мм в высоту  | 
||
| 
 XY позиционирование образца 
 | 
 5×5 мм 
 | 
||
| Позиционирование с точностью | 
 разрешение – 5 мкм 
минимальное перемещение – 2 мкм  | 
||
| Сканирование с замкнутой петлей обратной связи  | 
 Емкостные датчики по X, Y, Z 
 | 
||
| 
 Сканирование образцом 
 | 
 Сканирование зондом 
 | 
||
| Область сканирования | 
 100x100x25 мкм 
 | 
 100x100x7 мкм 
 | 
|
| Нелинейность, XY | 
 0.03 % (типично) 
 | 
 <0.15 % 
 | 
|
| Уровень шума, Z | 
 <0.2 нм (типично) 
 | 
 0.04 нм (типично), 
 | 
|
| Уровень шума, XY | 
 <0.5 нм (типично) 
 | 
 0.2 nm (типично), 
 | 
|
| Рабочая частота кварцевого резонатора | 
 190 кГц 
 | 
||
| Диаметр оптического волокна | 
 90 мкм (для 480-550 нм), 125 мкм (для 600-680 нм) 
 | 
||
| Апертура | 
 < 100 нм 
 | 
||
| Каналы для совместной регистрации | 
 метод Отражения 
 | 
||
| 
 метод Пропускания/Флуоресценции 
 | 
|||
| ФЭУ (для любого канала)  | 
 Спектральная чувствительность 
 | 
 185-850 нм 
 | 
|
| 
 Чувствительность 420 нм 
 | 
 3×1010 В/Вт 
 | 
||
| 
 Преобразующий усилитель 
Ток-Напряжение (встроенный)  | 
 1×106 В/A 
 | 
||
| 
 Частотная ширина полосы 
 | 
 20 кГц 
 | 
||
| 
 Высоковольтный источник питания 
 | 
 встроенный 
 | 
||
| 
 Виброизоляция 
 | 
 Активная 
 | 
  0.7-1000 Гц 
 | 
|
| 
 Пассивная 
 | 
 выше 1 кГц 
 | 
||
                                  ИК микроскоп EX68R – идеальное решение для проведения инспекционного […]
Запрос цены Подробнее
                                  SNOM зонды для Ближнепольной Сканирующей Микроскопии. Доступны для заказа […]
Запрос цены Подробнее