Платформа PicoVAC mini
ООО "ЭМТИОН" Производитель
Настольные технологические установки на базе платформы PicoVAC mini оптимизированы для образовательного процесса и лабораторного применения. Позволят учащимся познакомиться с работой магнетронного напыления и плазменной обработки.
Описание Платформа PicoVAC mini
Настольное оборудование на базе платформы PicoVAC mini позволяет осуществлять осаждение металлических слоев и плазменную обработки материалов, в том числе травления п/п и оксидов/нитридов с невысокими скоростями, плазменной активации поверхности для различных применений (например, придание свойств гидрофильности), осаждения плазмополимеризованных пленок (например, гидрофобных, пассивирующих и др.) с целью изменения свойств поверхности, очистки материалов от органических загрязнений, плазменного проявления и удаления фоторезистивных пленок в кислород содержащей среде, осаждения ПТФЭ (тефлон), стерилизации инструмента и др.
Магнетронное напыление:
- Камера из нержавеющей стали диаметром 100-150 мм;
- Тип магнетрона – уравновешенный магнетрон постоянного тока;
- Рабочая мощность магнетрона (точка стабилизации) – 20 Вт;
- Напряжение зажигания магнетрона, не менее – 1200 В;
- Напряжение рабочей точки магнетрона – от 200 до 400 В;
- Диаметр мишени магнетрона – от 39 мм;
- Диапазон задания времени напыления таймером блока управления – от 5 до 299 секунд;
- Откачная система на одном роторном или спиральном насосе (опционально возможна установка турбомолекулярного насоса);
- Измеритель давления;
- Контроль давления по потоку газа через РРГ на входе.
Плазменная обработка
- Камера: цилиндрическая Ø 120 мм, ориентированная на поштучную обработку пластин диаметром до 100 мм. Объем камеры 1.5 литра;
- Материалы камеры – алюминий или алюминий со вставкой из нержавеющей стали;
- Подвод газа: две линии с ротаметрами и электроклапанами;
- Возбуждение плазмы: от точечного источника электромагнитной волны 2,45 ГГц, магнетронного типа через плоское стекло нижнего фланца;
- Однородность скорости обработки по площади: не хуже ±7 % для частоты 2.45ГГц;
- Вакуумный насос- роторный масляный (5-8 м³/ч, 10E-3 mBar);
- Управление – автоматическое от интеллектуального реле, с предустановкой времени обработки таймером;
- Датчик давления: емкостной мембранный.
Каталог технологическое оборудование
ЗагрузитьМожет быть полезно:
Лаборатория планарных технологий микроэлектроники
Лаборатория ориентирована на демонстрацию сути технологических […]
Запрос цены ПодробнееПлатформа PicoVAC
Вакуумное технологическое оборудование на базе платформы PicoVAC позволяет осуществлять […]
Запрос цены ПодробнееOXIGate
Предназначен для синтеза различных видов оксидных пористых наноструктур методом […]
Запрос цены Подробнее