Локальный анализ и химическое картирование

Диаметр рентгеновского пятна регулируется от 10 до 400 мкм. Оптический микроскоп используется для выбора участков и позиционирования, область перемещения столика — 60 × 60 мм². Последовательная регистрация локальных спектров позволяет получать карты элементов и химических состояний, анализировать неоднородности плёнок, включения и отдельные участки устройств.

Моноатомное и кластерное профилирование

• Энергия и режимы ионного источника. Ионный источник работает в диапазоне 0,3–8 кэВ и поддерживает моноатомный и кластерный режимы.
• Выбор режима распыления. Моноатомное распыление применяется для очистки и профилирования неорганических слоёв; кластерный режим — для чувствительных органических и полимерных материалов.
• Автоматическое профилирование. Автоматическая последовательность «распыление — измерение» предназначена для исследования многослойных структур, распределения компонентов и химических изменений на межфазных границах.

Двухлучевая нейтрализация низкоэнергетическими электронами и ионами Ar⁺ входит в базовое оснащение. Она обеспечивает компенсацию заряда при анализе диэлектрических покрытий, порошков, полимеров и биоматериалов.

Автоматизация серийных исследований

Автоматизированы загрузка образцов, настройка и оптимизация параметров, компенсация заряда, сбор и обработка данных. Программа объединяет образцы и участки в очередь, включая обзорные спектры, выбранные спектральные линии, картирование и профилирование. Это позволяет выполнять длительные серии с воспроизводимыми настройками и сокращает число ручных операций.

Изготовленная система XPS-X5.

Дополнительные методы и среда подготовки

• UPS —  исследование валентной зоны и работы выхода с УФ-возбуждением.
• ARXPS — измерения при разных углах выхода для исследования тонких поверхностных слоёв и изменения глубинной чувствительности.
• ISS — анализ верхних атомных слоёв методом рассеяния ионов.
• REELS — спектроскопия потерь энергии отражённых электронов для исследования электронных возбуждений.
• Оснащение для пробоподготовки — оснащение для пробоподготовки включает различные держатели, камеру вакуумного переноса, ячейку с инертным газом и модуль обработки при повышенных температуре и давлении.
• Защищённый перенос — защищённый перенос применяется для чувствительных электродных и реакционноспособных материалов.
• Базовая комплектация — базовая система включает энергоанализатор, монохроматический источник, столик, вакуумный комплекс, ПО, нейтрализатор и ионный источник с двумя режимами распыления.

Применения

• Полупроводники и микроэлектроника. Химические состояния оксидов и тонких плёнок, загрязнения, локальный анализ структур.
• Аккумуляторные материалы. Поверхностные и межфазные слои электродов, изменение состава после циклирования и обработки.
• Полимеры и биоматериалы. Функциональные группы, модификация поверхности и распределение компонентов по глубине.
• Катализаторы и коррозия. Состояния активных компонентов, оксидные слои и продукты взаимодействия со средой.