GVC-2000
Установка напыления металлических покрытий методом магнетронного напыления.
Описание
GVC-2000 - это профессиональное решение в линейке устройств для нанесения покрытий методом магнетронного напыления. Устройство представляет из себя компактную настольную систему, имеющую стеклянную процессную камеру, в которой располагается образец. Рекомендуемая рабочая среда камеры - аргон (баллоны со смесью поставляются отдельно). Для откачки вакуума используется роторный насос, контроль давления в вакуумной линии осуществляется встроенным датчиком Пирани. Система блокировки вакуума рассчитана на значение 100 Па, при достижении которого система производит сброс линии давления с помощью установленного напускного клапана.
При магнетронном напылении отрицательные ионы связаны магнитным полем, поэтому бомбардировка образца практически отсутствует, за счет чего повышение температуры образца практически отсутствует что позволяет работать с образцами, чувствительными к воздействию температур (в отличие от метода напыления постоянным током DC, в котором в результате бомбардировки образца отрицательными ионами под действием электрического поля происходит повышение температуры образца). Напряжение напыления установки магнетронного напыления составляет 600 В, в то время как максимальный уровень вакуума составляет 3 Па.
Система предназначена для предварительной подготовки непроводящих образцов к СЭМ сканированию (сканирование электронным микроскопом). Процесс пробоподготовки поверхности образца необходим для того, чтобы улучшить качество получаемых СЭМ изображений. Перед проведением сканирования, образец покрывают тонкой проводящей металлической пленкой для усиления вторичного электронного сигнала, получаемого с SE детектора СЭМ. Тонкий напыленный слой позволяет устранить заряд на поверхности образца, уменьшить вероятность термического повреждение образца при воздействии на него электронным пучком. Выход вторичных электронов с образца особенно хорошо достигается при использовании золота в качестве распыляемого материала.
Особенности
-
Микропроцессорная система управления для точного контроля параметров технологического процесса (показания давления вакуума в реальном времени, тока распыления, времени распыления, времени работы оборудования и т.д.
-
5-и дюймовый цветной сенсорный экран.
-
Работа со стандартными мишенями, такими, как золото, серебро, медь, платина и т.д.
-
Стандартная толщина напыления золотой пленки не более 10 нм (экономия расходных мишеней).
-
Эффективность нанесения слоя в магнетронной установки вакуумного напыления в 2 раза, чем в DC системе напыления.
-
Встроенная система помощи и подсказок, включая функция расчета толщины пленки и оценки процесса покрытия образца.
-
Встроенные функции защиты оборудования по перегрузки по току, превышения вакуума.
Технические характеристики
GVC-2000
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Размер (Д×Ш×В) | 424×271×255 мм |
| Питание установки | 220 В / 50 Гц |
| Напряжение распыления | 600 В |
| Способ распыления | Магнетронное напыления |
| Максимальная мощность | 450 Вт |
| Размер мишени | диаметр 57 мм, толщина 0,2 мм (платина) |
| Материал мишени | Au, Pt, Ag, Cu, Al (TMP), металлическая мишень |
| Вакуумный насос | насос производительностью 1 л/с (опционально доступен сухой спиральный насос) |
| Вакуумная камера | диаметр 130×130 мм |
| Максимальный вакуум | ≤1Па (датчик Пирани) |
| Возможность размещения чашек образца | 1 чаша диаметром 90 мм, 4 чаши диаметром 25 мм, 6 чаш диаметром 15 мм |
| Ввод вакуума | автоматический; высокоточный впускной клапан |
| Дегазация | автоматическая |
| Рабочий ток | 5-45 мА регулируемый (опционально 5-100 мА) |
| Размер частиц (Золото) | 6-10 нм |
| Рабочий газ | аргон (баллон не входит в комплектацию) |
| Защита от перегрузок | Перегрузка по току (при превышении 50 мА), блокировка превышения вакуумного давления (при 100 Па) |
| Доступные опции | Вращающаяся чаша для образцов, измерение толщины пленок, сухой спиральный насос, турбомолекулярный насос и др. |
| Вес | 12 кг (без учета насоса) |
Применение
Нанесение покрытий магнетронным напылением в вакуумной камере.
Материалы
Все материалы (1)Обсудим вашу задачу
Укажите образцы, метод и условия измерений. Подберём конфигурацию и состав оборудования.