PicoVAC
Платформа
Малогабаритные технологические установки на базе платформы PicoVAC являются оптимальным выбором для лабораторного, исследовательского и образовательного применения, предлагая широкий набор современных технологических устройств с невысоким бюджетом стоимости и эксплуатации.
Описание
Вакуумное технологическое оборудование на базе платформы PicoVAC позволяет осуществлять осаждение (Магнетрон, ЭЛИ, ПХТиО и др.) тонкопленочных и многослойных покрытий. Оборудование ориентировано на лабораторное, исследовательское и образовательное применение, а также на мелкосерийное производство.
Особенности
Процессы на платформе PicoVAC
- Магнетронное осаждение металлических слоев;
- Магнетронное осаждение диэлектрических слоев;
- Электронно-лучевое испарение;
- Плазмохимическое осаждение из газовой фазы диэлектрических слоев (SiO2, Si3N4 и др.);
- Атомно-слоевое осаждение тонких конформных слоев;
- Удаление фоторезиста в кислородной плазме;
- Плазмохимическое травление широкого спектра материалов;
- Очистка и модифицирование поверхности подложек и структур.
Технические характеристики
PicoVAC
| Размер образцов | Обработка образцов диаметром до 100 мм; Расположение образцов – лицевой стороной вниз; |
| Источники питания | Постоянный ток (DC): мощность 1000-1500 Вт Индуктивно-связанная плазма (ICP): мощность 600-1000 Вт, частота 13.56 МГц; Электронно-лучевой испаритель: мощность до 6 КВт; |
| Система ионного ассистирования | Мощность до 2 КВт, для повышения плотности и однородности напыляемых покрытий; |
| Нагрев | Ламповый до 350оС, либо до 600оС |
| Давление в камере | Откачка на базе сухого спирального и турбомолекулярного насосов; Рабочее давление в реакторе 10-2 - 10-6 торр; Контроль давления – химически стойкие мембранные датчики, блокировка на открытие клапанов; |
| Количество газовых каналов | От одного до четырех, в зависимости от технологического процесса; Максимальный расход от 20 см3/мин до 100 см3/мин; Электронные регуляторы расхода газов; |
| Управление | Ручное или автоматическое с лицевой панели; |
Применение
Осаждение тонкоплёночных покрытий. Конфигурацию вакуумной платформы выбирают по материалу слоя и процессу осаждения.
Материалы
Все материалы (1)Обсудим вашу задачу
Укажите образцы, метод и условия измерений. Подберём конфигурацию и состав оборудования.