PicoVAC pro
Платформа нанесения тонких плёнок
Технологические установки на базе платформы PicoVAC PRO являются оптимальным выбором для исследований, мелкосерийного и серийного производства. Установки позволяют реализовывать режимы магнетронного осаждения, терморезистивного напыления, электронно-лучевого испарения.
Описание
Вакуумные технологические установке на базе платформы PicoVAC PRO предназначены для послойного напыления многослойных покрытий, как по заданной программе, так и в ручном режиме. Существует возможность автоматически управлять процессом, контролировать выходные параметры процесса. Результаты автоматически сводятся в протокол. Система управления обеспечивает обработку, хранение и экспорт информации по проведению процесса.
Конструктивно установки выполнены в виде D-образной вакуумной камеры, установленной на монтажной раме. Отдельно устанавливается стандартная 19-ти дюймовая телекоммуникационная стойка с источниками питания, контроллерами и управляющим компьютером, а также чиллер охлаждения. Вакуумная камера оснащена дверью загрузки/выгрузки и обслуживания технологических устройств. Подложки устанавливаются в горизонтально расположенный карусельный подложкодержатель.
Особенности
Доступны ручное и программное управление осаждением. Система регистрирует параметры процесса и формирует протокол.
Технические характеристики
PicoVAC pro
| Камера и размер образцов | Обработка образцов диаметром до 200 мм; Подложкодержатель карусельного типа; Плавное регулирование вращения до 15 об/мин; Диаметр камеры до 600мм; |
| Напыляемые материалы | Металлы, диэлектрики, многослойные покрытия |
| Напылительная система | Терморезистивный испаритель: мощность до 3кВТ Электронно-лучевой испаритель: мощность до 6 КВт; Магнетрон постоянного тока: мощность 1000-1500 Вт; ВЧ магнетрон: мощность 600-1000 Вт, частота разряда 13.56 МГц; Электронно-лучевой испаритель: мощность до 6 КВт; |
| Система ионного ассистирования | Мощность от 0,5 до 2 КВт, для повышения плотности и однородности напыляемых покрытий; |
| Контроль толщины | Кварцевый датчик; |
| Нагрев | Температура нагрева до 300 °С ИК-нагреватель; |
| Система откачки | Предельное остаточное давление в пустой камере 10-6 - 10-7 торр; Откачка на базе сухого спирального и турбомолекулярного насосов. Скорость откачки форвакуумного насоса не менее 35 м3/час. Скорость откачки высоковакуумного от 700л/с до 2600 л/с; Типы вакуумметров: Широкодиапазонный (комбинированный), датчик Пирани; |
| Система напуска газов | От двух до четырех газовых каналов, в зависимости от технологического процесса; Электронные регуляторы расхода газов; |
| Система управления | Блоки питания и управления расположены в стандартной телекоммуникационной стойке, располагаемой рядом с камерой; В системе управления не используются сторонние программные продукты - все устройства управляются единым программным обеспечением Установки; Контрольные параметры всех систем выводятся на монитор оператора (заданные значения и реально измеренные); Предусмотрено полностью автоматическое управление - программа автоматически включает, переключает и отключает системы, поддерживая заданные параметры и алгоритм. |
Применение
Осаждение тонкоплёночных покрытий. Конфигурацию вакуумной платформы выбирают по материалу слоя и процессу осаждения.
Материалы
Все материалы (1)Обсудим вашу задачу
Укажите образцы, метод и условия измерений. Подберём конфигурацию и состав оборудования.