Лаборатория планарных технологий микроэлектроники
ООО "ЭМТИОН"
Лаборатория ориентирована на демонстрацию сути технологических процессов планарных технологий микроэлектроники
Описание Лаборатория планарных технологий микроэлектроники
Лаборатория ориентирована на демонстрацию сути технологических процессов, которые уже более 50 лет используются для изготовления полупроводниковых приборов и интегральных микросхем. Таким образом, лаборатория организована на базе максимально безопасных и простых в понимании настольных технологических установок. Это позволяет учащимся старших классов образовательных учреждений понять полный цикл технологических операций для создания полупроводниковых приборов. Например, полевого транзистора с изолированным затвором на базе которого работают ячейки флэш-памяти. Характеристики полевого транзистора зависят от его линейных размеров, толщины, уровней легирования и др., данные параметры могут контролироваться и изменяться в процессе проведения проектных работ в лаборатории.
| Используемое в лаборатории оборудование специально разработано или адаптировано для применения в образовательном процессе. Оборудование рассчитано на работу с кремниевыми пластинами диаметром 1-2 дюйма. |  |
Пример состава оборудования (варьируется по согласованию с заказчиком):
- печь для операций диффузии (создание поверхностной проводящей области), окисления (формирование подзатворного диэлектрика), а также высокотемпературного отжига.
- установка оптической литографии для переноса изображения с заранее заданного шаблона на плоскую поверхность. В качестве источника излучения может быть использована ртутная лампа.
- установка проявления и удаления фоторезиста (химический шкаф с набором ванн с реактивами либо плазменная установка)
- установка плазменного травления сквозь маску для формирования канавок
- установка металлизации для заполнения канавок
- оптический микроскоп для операций визуального контроля
- установки для измерений электрофизических параметров (вольтметр, амперметр, зондовая станция)
- установки распайки и корпусирования
Магнетронное напыление:
- Камера из нержавеющей стали диаметром 100-150 мм;
- Тип магнетрона – уравновешенный магнетрон постоянного тока;
- Рабочая мощность магнетрона (точка стабилизации) – 20 Вт;
- Напряжение зажигания магнетрона, не менее – 1200 В;
- Напряжение рабочей точки магнетрона – от 200 до 400 В;
- Диаметр мишени магнетрона – от 39 мм;
- Диапазон задания времени напыления таймером блока управления – от 5 до 299 секунд;
- Откачная система на одном роторном или спиральном насосе (опционально возможна установка турбомолекулярного насоса);
- Измеритель давления;
- Контроль давления по потоку газа через РРГ на входе.
Плазменная обработка
- Камера: цилиндрическая Ø 120 мм, ориентированная на поштучную обработку пластин диаметром до 100 мм. Объем камеры 1.5 литра;
- Материалы камеры – алюминий или алюминий со вставкой из нержавеющей стали;
- Подвод газа: две линии с ротаметрами и электроклапанами;
- Возбуждение плазмы: от точечного источника электромагнитной волны 2,45 ГГц, магнетронного типа через плоское стекло нижнего фланца;
- Однородность скорости обработки по площади: не хуже ±7 % для частоты 2.45ГГц;
- Вакуумный насос- роторный масляный (5-8 м³/ч, 10E-3 mBar);
- Управление – автоматическое от интеллектуального реле, с предустановкой времени обработки таймером;
- Датчик давления: емкостной мембранный.
Каталог технологическое оборудование
ЗагрузитьМожет быть полезно:
Платформа PicoVAC mini
Настольное оборудование на базе платформы PicoVAC mini позволяет осуществлять осаждение металлических […]
Запрос цены ПодробнееNTEGRA ACADEMIA
NTEGRA Academia – это многофункциональный АСМ для обучения старшеклассников […]
Запрос цены ПодробнееУчебно-научный класс по нанотехнологиям
Это комплекс современных исследовательских приборов, разработанный […]
Запрос цены Подробнее