Платформа PicoVAC PRO - ЭМТИОН
Платформа PicoVAC PRO

ООО "ЭМТИОН"

Технологические установки на базе платформы PicoVAC PRO являются оптимальным выбором для исследований, мелкосерийного и серийного производства. Установки позволяют реализовывать режимы магнетронного осаждения, терморезистивного напыления, электронно-лучевого испарения.

Описание Платформа PicoVAC PRO

Вакуумные технологические установке на базе платформы PicoVAC PRO предназначены для послойного напыления многослойных покрытий, как по заданной программе, так и в ручном режиме. Существует возможность автоматически управлять процессом, контролировать выходные параметры процесса. Результаты автоматически сводятся в протокол. Система управления обеспечивает обработку, хранение и экспорт информации по проведению процесса.

 

Конструктивно установки выполнены в виде D-образной вакуумной камеры, установленной на монтажной раме. Отдельно устанавливается стандартная 19-ти дюймовая телекоммуникационная стойка с источниками питания, контроллерами и управляющим компьютером, а также чиллер охлаждения. Вакуумная камера оснащена дверью загрузки/выгрузки и обслуживания технологических устройств. Подложки устанавливаются в горизонтально расположенный карусельный подложкодержатель.

 

Камера и размер образцов Обработка образцов диаметром до 200 мм;

Подложкодержатель карусельного типа;

Плавное регулирование вращения до 15 об/мин;

Диаметр камеры до 600мм;

Напыляемые материалы Металлы, диэлектрики, многослойные покрытия
Напылительная система Терморезистивный испаритель: мощность до 3кВТ

Электронно-лучевой испаритель: мощность до 6 КВт;

Магнетрон постоянного тока: мощность 1000-1500 Вт;

ВЧ магнетрон: мощность 600-1000 Вт, частота разряда 13.56 МГц;

Электронно-лучевой испаритель: мощность до 6 КВт;

Система ионного ассистирования Мощность от 0,5 до 2 КВт, для повышения плотности и однородности напыляемых покрытий;
Контроль толщины Кварцевый датчик;
Нагрев Температура нагрева до 300 °С

ИК-нагреватель;

Система откачки Предельное остаточное давление в пустой камере 10-6 – 10-7 торр;

Откачка на базе сухого спирального и турбомолекулярного насосов. Скорость откачки форвакуумного насоса не менее 35 м3/час. Скорость откачки высоковакуумного от 700л/с до 2600 л/с;

Типы вакуумметров: Широкодиапазонный (комбинированный), датчик Пирани;

Система напуска газов От двух до четырех газовых каналов, в зависимости от технологического процесса;

Электронные регуляторы расхода газов;

Система управления Блоки питания и управления расположены в стандартной телекоммуникационной стойке, располагаемой рядом с камерой;

В системе управления не используются сторонние программные продукты – все устройства управляются единым программным обеспечением Установки;

Контрольные параметры всех систем выводятся на монитор оператора (заданные значения и реально измеренные);

Предусмотрено полностью автоматическое управление – программа автоматически включает, переключает и отключает системы, поддерживая заданные параметры и алгоритм.

Может быть полезно:

Лаборатория планарных технологий микроэлектроники

Лаборатория ориентирована на демонстрацию сути технологических процессов, которые уже […]

Запрос цены Подробнее
CVDTube

Использование технологии химического осаждения из газовой фазы в установке […]

Запрос цены Подробнее

Оставьте заявку

И мы ответим на интересующие Вас вопросы