Платформа PicoVAC mini

ООО "ЭМТИОН" Производитель

Настольные технологические установки на базе платформы PicoVAC mini оптимизированы для образовательного процесса и лабораторного применения. Позволят учащимся познакомиться с работой магнетронного напыления и плазменной обработки.

Описание Платформа PicoVAC mini

Настольное оборудование на базе платформы PicoVAC mini позволяет осуществлять осаждение металлических слоев и плазменную обработки материалов, в том числе травления п/п и оксидов/нитридов с невысокими скоростями, плазменной активации поверхности для различных применений (например, придание свойств гидрофильности), осаждения плазмополимеризованных пленок (например, гидрофобных, пассивирующих и др.) с целью изменения свойств поверхности, очистки материалов от органических загрязнений, плазменного проявления и удаления фоторезистивных пленок в кислород содержащей среде, осаждения ПТФЭ (тефлон), стерилизации инструмента и др.

 

 

Магнетронное напыление:

  • Камера из нержавеющей стали диаметром 100-150 мм;
  • Тип магнетрона – уравновешенный магнетрон постоянного тока;
  • Рабочая мощность магнетрона (точка стабилизации) – 20 Вт;
  • Напряжение зажигания магнетрона, не менее – 1200 В;
  • Напряжение рабочей точки магнетрона – от 200 до 400 В;
  • Диаметр мишени магнетрона – от 39 мм;
  • Диапазон задания времени напыления таймером блока управления – от 5 до 299 секунд;
  • Откачная система на одном роторном или спиральном насосе (опционально возможна установка турбомолекулярного насоса);
  • Измеритель давления;
  • Контроль давления по потоку газа через РРГ на входе.

 

Плазменная обработка

  • Камера: цилиндрическая Ø 120 мм, ориентированная на поштучную обработку пластин диаметром до 100 мм. Объем камеры 1.5 литра;
  • Материалы камеры — алюминий или алюминий со вставкой из нержавеющей стали;
  • Подвод газа: две линии с ротаметрами и электроклапанами;
  • Возбуждение плазмы: от точечного источника электромагнитной волны 2,45 ГГц, магнетронного типа через плоское стекло нижнего фланца;
  • Однородность скорости обработки по площади: не хуже ±7 % для частоты 2.45ГГц;
  • Вакуумный насос- роторный масляный (5-8 м³/ч, 10E-3 mBar);
  • Управление — автоматическое от интеллектуального реле, с предустановкой времени обработки таймером;
  • Датчик давления: емкостной мембранный.

 

Может быть полезно:

Описание методик

Полуконтактный АСМ

Использование колеблющегося кантилевера в Сканирующей Силовой Микроскопии впервые было […]


Метод отображения Фазы АСМ

Использование колеблющегося кантилевера в Атомно-силовой микроскопии впервые было предложено […]


Многопроходные Методики

Многопроходные методики АСМ обычно используются в задачах, где необходимо […]


Научные результаты на обору­довании

Магнитооптические, структурные и поверхностные свойства (Bi, Ga)-замещенных DyIG пленок, полученных реактивно-ионным распылением.

Зависимости магнитооптических, структурных и морфологических свойств наноразмерных (Bi, Ga) […]


Микрораман. Измерение механического напряжения в кремнии

  Механическое напряжение может оказывать прямое или косвенное влияние […]


Оставьте заявку

И мы ответим на интересующие Вас вопросы