MN-UV - ЭМТИОН АСМ/Раман, SPECTRA, AFM, SPM
MN-UV

Китай

Безмасковая УФ-литография

Описание MN-UV

     Основанная на УФ-литографии, система MN-UV сочетает в себе компактный эргономичный дизайн, полностью автоматическое управление, мощное и удобное в использовании программное обеспечение, высокую скорость записи и высокое разрешение, что делает этот прибор идеальным для быстрого прототипирования и мелкосерийного производства, а также для применения в микрофлюидике, полупроводниковой промышленности, биомедицинской инженерии и микроэлектронике.

 

  • Диаметр обрабатываемых подложек до 300мм
  • Минимальный топологический размер з110нм
  • Минимальный размер по вертикали <400нм
  • Неравномерность края s30hm
  • Максимальная скорость 50000мм/с
  • Максимальная высота образца 70мм
  • Максимальная область экспонирования 300x300x70мм

Может быть полезно:

NIL-150/200

В процессе уменьшения размера элементов, наряду с традиционной литографией, […]

Запрос цены Подробнее
Платформа PicoVAC mini

Настольное оборудование на базе платформы PicoVAC mini позволяет осуществлять осаждение металлических […]

Запрос цены Подробнее

Оставьте заявку

И мы ответим на интересующие Вас вопросы