Описание Микрофокусный РФЭС XPS-VERSA

XPS-VERSA — это современный микрофокусный рентгеновский фотоэлектронный спектрометр, обеспечивающий высокое пространственное разрешение для анализа поверхности материалов. Метод рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии (XPS) основан на взаимодействии рентгеновских лучей с атомами и молекулами. Основной принцип метода заключается в измерении энергии и интенсивности фотоэлектронов, испускаемых при воздействии рентгеновского излучения на поверхность образца.

Ключевые особенности метода XPS

• Высокая поверхностная чувствительность. Метод позволяет анализировать только верхние слои образца толщиной до нескольких нанометров, что делает его особенно полезным для исследования поверхностных свойств материалов.

• Высокая химическая специфичность. Метод позволяет идентифицировать элементы, присутствующие на поверхности образца, и определять их химическое состояние. Это достигается путем анализа энергии связи фотоэлектронов, которая зависит от химической природы атома или молекулы, из которых они исходят.

• Высокая энергетическая разрешающая способность. Метод позволяет различать фотоэлектроны с разными энергиями с высокой точностью, что позволяет определять даже небольшие изменения в химическом состоянии поверхности образца.

Конструктивные особенности XPS-VERSA

Ключевое отличие спектрометра XPS-VERSA заключается в использовании микрофокусного монохроматизированного источника (μXR200-Mono), который фокусирует излучение в чрезвычайно малое пятно типичным размером 100 мкм и оптимальным — до 10 мкм. Это обеспечивает высокое пространственное разрешение и позволяет проводить элементный и химический анализ микроскопических объектов, таких как отдельные частицы, дефекты или паттерны микросхем.

Высокое энергетическое разрешение (≤ 50 мэВ) гарантирует точное разделение пиков химических состояний даже при работе с малыми образцами. Для точного позиционирования микроскопических областей анализа используется полностью автоматический пятиосевой столик с широким диапазоном перемещения X/Y: ±25 мм, что позволяет анализировать большую площадь без переустановки образца. Система рассчитана на работу со стандартными образцами диаметром 2 дюйма и поддерживает многофункциональные измерения (XPS, UPS, ARPES, AES).

Таким образом, рентгеновская фотоэлектронная спектроскопия является мощным методом анализа поверхности материалов, сочетающим высокую поверхностную чувствительность, химическую специфичность и энергетическую разрешающую способность с уникальным пространственным разрешением.

Области применения

• Анализ полупроводниковых устройств и микросхем
• Анализ отдельных наночастиц и наноструктур
• Исследование биоматериалов, каталитических частиц
• Исследование коррозии в локальных областях.